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制造半導(dǎo)體器件或集成電路用物理氣相沉積裝置(物理氣相沉積裝置(PVD))
| 海關(guān)編碼 | 8486202200 |
| 商品描述 | 制造半導(dǎo)體器件或集成電路用物理氣相沉積裝置(物理氣相沉積裝置(PVD)) |
| 商品描述英文 | Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
| 申報要素 | 0:品牌類型;1:出口享惠情況;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型號;6:GTIN;7:CAS; |
| 申報要素舉例 | 1.蒸發(fā)臺(舊);2.在晶片表面鍍上金屬薄膜;3.在半導(dǎo)體表面制備金屬薄膜;4.無品牌;5.無型號 |
| 第一法定單位 | 臺 |
| 第二法定單位 | 無 |
| 最惠國進口稅率 | 0% |
| 普通進口稅率 | 30% |
| 暫定進口稅率 | - |
| 消費稅率 | - |
| 出口關(guān)稅率 | 0% |
| 出口退稅率 | 16% |
| 增值稅率 | 16% |
| 海關(guān)監(jiān)管條件 | 無 |
| 檢驗檢疫類別 | 無 |